Фон дьо тен Buttermelt Glaze, SPF 30, 03 Cashew Butta, 30 ml

Фон дьо тен Buttermelt Glaze 03 Cashew Butta от NYX PROFESSIONAL MAKEUP е идеалният продукт за постигане на красив и сияен тен. Той придава равномерен тен на кожата и осигурява надеждна защита срещу вредните UVA и UVB лъчи, благодарение на интегрирания слънцезащитен фактор SPF 30. Формулата е течна и позволява лесно и гладко нанасяне, което я прави изключително удобна за употреба. Съставките, като масло от шеа, масло от манго и ниацинамид, осигуряват интензивна хидратация и грижа за кожата, добавяйки допълнителен подхранващ ефект. Също така, основата предлага възможност за изграждане на покритие, което позволява да се нанася в различни слоеве според желаното ниво на покритие и ефект. Независимо дали искате леко покритие за ежедневието или по-силно за специални поводи, Buttermelt Glaze е идеалният избор за Вас. Без животински съставки.

AQUA / WATER / EAU • GLYCERIN • HOMOSALATE • OCTOCRYLENE • CAPRYLYL METHICONE • ETHYLHEXYL SALICYLATE • DIMETHICONE • SILICA • BUTYLOCTYL SALICYLATE • CETYL PEG/PPG-10/1 DIMETHICONE • NIACINAMIDE • PROPANEDIOL • DIMETHICONE/PEG-10/15 CROSSPOLYMER • CAMELLIA SINENSIS LEAF EXTRACT • MANGIFERA INDICA SEED BUTTER / MANGO SEED BUTTER • BUTYROSPERMUM PARKII BUTTER / SHEA BUTTER • SIMETHICONE • SODIUM CHLORIDE • SODIUM CITRATE • SODIUM HYALURONATE • SILICA SILYLATE • TRIMETHYLSILOXYSILICATE • ALUMINUM HYDROXIDE • ADENOSINE • DISODIUM STEAROYL GLUTAMATE • DIPROPYLENE GLYCOL • CAPRYLYL GLYCOL • CITRIC ACID • TRISODIUM ETHYLENEDIAMINE DISUCCINATE • MALTODEXTRIN • SYNTHETIC FLUORPHLOGOPITE • DISTEARDIMONIUM HECTORITE • TOCOPHEROL • PENTAERYTHRITYL TETRA-DI-T-BUTYL HYDROXYHYDROCINNAMATE • PHENOXYETHANOL • CHLORPHENESIN • PARFUM / FRAGRANCE • LIMONENE

1.Нанесете течната основа сутрин след ежедневното почистване на лицето, за да осигурите оптимална защита на кожата от слънцето благодарение на интегрирания слънцезащитен фактор. 2. Нанесете малко количество от основата NYX Professional Makeup Buttermelt Glaze с помощта на четка за основа върху цялото лице, за да постигнете равномерен, без ивици и мек завършек. 3. За по-силно покритие, основата може да се нанесе и в няколко слоя.

Съхранявайте на хладно и сухо място.